パルス法NMRによる多成分系の緩和スペクトル : 第三報スチレン系ブロックポリマーの緩和特性
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概要
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- 2011-02-01
著者
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中村 吉伸
大阪工業大学工学部応用化学科大阪工業大学ナノ材料マイクロデバイス研究センター
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佐々木 眞利子
日東分析センター
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浦濱 圭彬
日本粘着テープ工業会
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岸 肇
兵庫県立大学大学院工学研究科
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中村 吉伸
大阪工大
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中村 吉伸
大阪工業大学
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岸 肇
兵庫県立大学大学院工学研究科機械系工学専攻環境エネルギー工学部門
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加藤 陽介
大阪工業大学工学部応用化学科
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伊東 慶子
大阪工業大学工学部応用化学科
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中村 〓伸
大阪工業大学工学部応用化学科
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浦濱 圭彬
大阪工業大学工学部応用化学科
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岸 肇
兵庫県立大学 大学院 工学研究科
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