ダブルパターニング技術の開発と応用
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2010-07-08
著者
-
西村 栄一
東京エレクトロン山梨(株)
-
中島 滋
東京エレクトロン東北(株)開発部
-
八重樫 英民
東京エレクトロン(株)先端プロセス開発センタ
-
長谷部 一秀
東京エレクトロン東北(株)開発部
-
川崎 哲
東京エレクトロン九州(株)プロセス開発部
-
櫛引 理人
東京エレクトロンAT(株)技術開発センタ
-
原 亜梨沙
東京エレクトロン(株)先端プロセス開発センタ
-
山内 祥一
東京エレクトロン(株)先端プロセス開発センタ
-
名執 桜子
東京エレクトロン(株)先端プロセス開発センタ
-
村上 博樹
東京エレクトロン東北(株)開発部
-
矢部 和雄
東京エレクトロン(株)先端プロセス開発センタ
-
志村 悟
東京エレクトロン九州(株)プロセス開発部
-
岩尾 史子
東京エレクトロン九州(株)プロセス開発部
-
小山 賢一
東京エレクトロン(株)先端プロセス開発センタ
-
西村 栄一
東京エレクトロンat(株)技術開発センタ
関連論文
- シリコンウエハー付き電極系SF_613.56MHz放電の診断
- 2p-A-11 SF_6 13.56MHz 放電特性のガス流量依存
- SF_6/Ar混合ガス13.56MHz放電におけるイオンの質量分析
- 28p-YT-2 SF_6RF放電におけるラジカルと正負イオン種
- 平行平板RF放電における直流自己バイアス電圧の発生とその抑制
- 26p-E-9 SF_6 13.56MHz RF放電の質量分析による観測
- ダブルパターニング技術の開発と応用