論文relation
クラスタボロン注入を用いた浅いソースドレインエクステンションの形成
スポンサーリンク
概要
論文の詳細を見る
2010-11-10
著者
川崎 洋司
ルネサスエレクトロニクス(株)
関連論文
クラスタボロン注入を用いた浅いソースドレインエクステンションの形成
32nmノード以降のメタルゲート/high-k CMOSの接合形成技術
22nmノード以降のCMOSに向けた低抵抗かつ均質なNiPtシリサイド膜の低温マイクロ波アニールによる形成
スポンサーリンク
論文relation | CiNii API
論文
論文著者
博士論文
研究課題
研究者
図書
論文
著者
お問い合わせ
プライバシー