リソグラフィ技術の最新動向

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 2010-11-15

著者

• 中杉 哲郎

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス研究所

• 中杉 哲郎

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

関連論文

• 1GビットDRAM用トレンチ・セル技術
• セル面積 0.29μm^2 を実現したトレンチ型 DRAM セル技術
• リソグラフィ技術の最新動向 (特集 微細加工技術とトライボロジー)
• リソグラフィ技術の最新動向

スポンサーリンク