波長405nm半導体レーザーによる二酸化チタン含有低濃度過酸化水素水のエナメル質漂白効果について
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概要
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- 2006-10-11
著者
-
平井 義人
東京歯科大学歯科保存学第三講座
-
中澤 妙衣子
東京歯科大学保存修復学講座
-
加藤 純二
東京歯科大学保存修復学講座
-
明石 豪
東京歯科大学保存修復学講座
-
堺 健太郎
東京歯科大学保存修復学講座
-
倉田 浩志
三菱ガス化学株式会社東京研究所
-
平井 義人
東京歯科大学保存修復学講座
-
加藤 純二
東京医科歯科大学大学院医歯学総合研究科う蝕制御学分野:東京歯科大学保存修復学講座
-
加藤 純二
東京歯科大学 歯科保存学第三講座
-
倉田 浩志
三菱ガス化学株式会社
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