無声放電式活性酸素発生機と酸化薄膜形成に於ける酸化力
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概要
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We have studied the low pressure silent discharge type active oxygen generator in terms of the application to the formation of oxide thin films. In this paper the oxidation power of active oxygen in the oxide thin film formation is compared with that of oxygen and ozone by forming silicon oxide thin films. It was confirmed that the oxidation power is in turn of active oxygen > ozone > oxygen from the experimental result of the number of x in SiOx thin film. Furthermore we applied active oxygen to the formation of the thin film high temperature super conductor and active oxygen was found to be effective to the formation of the thin film with high performance.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2007-02-01
著者
-
田中 正明
三菱電機(株)
-
田中 正明
先端技術総合研究所
-
田中 正明
三菱電機株式会社
-
川越 康行
三菱電機(株)生産技術センター
-
塚崎 尚
三菱電機(株)生産技術センター
-
山西 健一郎
三菱電機(株)生産技術センター
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