Scaling of Flash Memory Interpoly Dielectrics Using NH_3-Annealed CVD SiO_2 Single-Layer Films

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概要

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• 1997-09-16

著者

• Kume H.

  Central Research Laboratory Hitachi Ltd.

• KOBAYASHI T.

  Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.

• KATAYAMA A.

  Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.

• KIMURA K.

  Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.

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