サブ100nmに向けたX線リソグラフィのレジストプロセス技術

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概要

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• 1998-12-03

著者

• 中西 和也

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 出口 公吉

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 中西 和也

  Nttシステムエレクトニクス研究所

• 河合 義夫

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 小田 政利

  日本電信電話(株)NTT通信エネルギー研究所

• 小田 政利

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 出口 公吉

  Nttシステムエレクトニクス研究所

• 中村 二朗

  NTTシステムエレクトニクス研究所

• 河合 義夫

  NTTシステムエレクトニクス研究所

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• サブ100nmに向けたX線リソグラフィのレジストプロセス技術

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