マイクロ流体デバイス内の化学反応流における3次元的流れ場による拡散評価
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概要
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- 可視化情報学会の論文
- 2003-10-15
著者
-
岡本 孝司
東京大学大学院新領域創成科学研究科
-
火原 彰秀
東京大学
-
北森 武彦
東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻
-
杉井 康彦
東京大学
-
杉井 康彦
東京大学大学院 工学系研究科
-
篠原 恭介
大阪大学
-
火原 彰秀
東京大学生産技術研究所
-
篠原 恭介
東京大学
-
渡慶次 学
神奈川サイエンスアカデミー
-
北森 武彦
東京大学大学院工学系研究科
-
杉井 康彦
広島国際大
-
渡慶次 学
名古屋大学 工学部
-
火原 彰秀
東京大学大学院工学系研究科
-
Hibara Akihide
Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering The University Of Tokyo
-
Hibara Akihide
Department Of Applied Chemistry School Of Engineering The University Of Tokyo
-
Tokeshi Manabu
Department Of Molecular Science & Technology Kyushu University
-
Tokeshi Manabu
Integrated Chemistry Project Kanagawa Academy Of Science And Technology
-
HIBARA Akihide
JST-PRESTO
-
岡本 孝司
東京大学
-
北森 武彦
東京大学 大学院
-
火原 彰秀
Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo
-
北森 武彦
東京大学
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