Large Area Deposition of Polymorphous Silicon by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition at 27.12MHz and 13.56MHz
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概要
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- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
- 2003-08-15
著者
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Roca I
Laboratoire De Physique Des Interfaces Et Des Couches Minces Umr 7647 Cnrs Ecole Polytechnique
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AGUAS H.
Departamento de Ciencia dos Materiais, Faculdade de Ciencias e Tecnologia, Universidade Nova de Lisb
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SILVA V.
Departamento de Ciencia dos Materiais, Faculdade de Ciencias e Tecnologia, Universidade Nova de Lisb
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FORTUNATO E.
Departamento de Ciencia dos Materiais, Faculdade de Ciencias e Tecnologia, Universidade Nova de Lisb
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LEBIB S.
Laboratoire de Physique des Interfaces et des Couches Minces UMR 7647 CNRS, Ecole Polytechnique
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FERREIRA I.
Departamento de Ciencia dos Materiais, Faculdade de Ciencias e Tecnologia, Universidade Nova de Lisb
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GUIMARAES L.
Departamento de Ciencia dos Materiais, Faculdade de Ciencias e Tecnologia, Universidade Nova de Lisb
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MARTINS R.
Departamento de Ciencia dos Materiais, Faculdade de Ciencias e Tecnologia, Universidade Nova de Lisb
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