研磨圧力分布の補正によるCMPの研磨量均一性の改善
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概要
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- 2000-03-01
著者
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小島 弘之
日立生研
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西口 隆
日立生研
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大川 哲男
日立
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小島 弘之
生研
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佐藤 秀己
日立
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西口 隆
生研
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佐藤 秀己
日立 / 生研
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大川 哲男
(株)日立製作所生産技術研究所
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大川 哲男
(株)日立製作所 生産技術研究所
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大川 哲男
日立 / 生研
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小島 弘之
日立 / 生研
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西口 隆
日立 / 生研
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