WC系溶射皮膜のNa_2SO_4水溶液下における表面性状のpHによる変化
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概要
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- 2002-06-20
著者
-
木戸 光夫
広島工業大学
-
原田 良夫
トーカロ
-
原田 良夫
トーカロ株式会社溶射技術開発研究所
-
森弘 尚希
広島工業大学大学院
-
原田 良夫
トーカロ(株)
-
竹田 睦
広島工業大学工学部機械システム工学科
-
原田 良夫
トーカロ株式会社
-
竹田 睦
広島工業大学大学院
-
森弘 尚希
広島工業大学(院)
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