NiFe/FeCo/NiFe高飽和磁化薄膜の構造と軟磁気特性
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概要
- 論文の詳細を見る
- 2001-09-01
著者
-
村岡 裕明
東北大学電気通信研究所
-
島津 武仁
東北大学電気通信研究所
-
中村 慶久
東北大学電気通信研究所
-
渡辺 功
東北大学電気通信研究所
-
片田 裕之
東北大通研:日立
-
村岡 裕明
東北大
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中村 慶久
東北大
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片田 裕之
東北大学電気通信研究所
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島津 武仁
東北大
-
渡辺 功
東北大学 電気通信研究所
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