アルコール性ヒドロキシル基で修飾された二酸化チタン 2. 有機溶媒中における分散挙動
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概要
著者
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福井 寛
資生堂
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福井 寛
(株)資生堂リサーチセンター
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須原 常夫
株式会社資生堂リサーチセンター(新横浜)
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須原 常夫
(株)資生堂製品開発センターコスメティック研究所
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山口 道広
(株)資生堂基盤技術研究所
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山口 道広
資生堂基礎科学研究所
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山口 道広
(株)資生堂研究所
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福井 寛
資生堂 基礎科研
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福井 寛
(株)資生堂基盤技術研究所
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