SnドープしたIn_2O_3(ITO)焼結体の酸素放出・吸収に伴う電子伝導性変化

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概要

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• 1997-09-23

著者

• 小俣 孝久

  阪大院工

• 藤原 裕幸

  オムロン(株) 技術本部 先端デバイス研究所

• 八尾 伸也

  大阪大 大学院

• 小俣 孝久

  阪大・工

• 八尾 伸也

  阪大・工

• 藤原 裕幸

  阪大・工

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