光磁気膜を利用したダブルマスク型再生専用磁気超解像メモリ
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概要
著者
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鈴木 孝雄
豊田工大
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宮武 範夫
松下電器産業(株)光ディスク開発センター
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尾留川 正博
豊田工大
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鈴木 孝雄
豊田工大 大学院工学研究科
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宮武 範夫
松下電器産業
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宮武 範夫
松下電器
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尾留川 正博
豊田工業大学 情報記録機能材料研究室
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