極低温場を用いた光反応性分子のレーザーアブレーション
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概要
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- 1999-01-01
著者
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矢部 明
物質工学工業技術研究所
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佐藤 正健
物質工学工業技術研究所COE特別研究室
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矢部 明
独立行政法人 産業技術総合研究所
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佐藤 正健
物質工学工業技術研究所
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親納 弘之
物質工学工業技術研究所
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