LSI中の微細Al配線のエレクトロマイグレーションによる劣化機構

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概要

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• 日本金属学会の論文

著者

• 川ノ上 孝

  株式会社東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所プロセス技術研究所

• 金子 尚史

  株式会社東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所プロセス技術研究所

• 金子 尚史

  株式会社東芝セミコンダクター社

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