アジド化合物のアブレーションによるポリマー膜の表面修飾
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1995-01-01
著者
関連論文
- 分子線とエキシマレーザーからなる複合反応場でのビス(エチニルスチリル)ベンゼンの薄膜成長
- 有機溶液のレーザアブレーションによるUV透明材料の微細加工
- OPE2000-32 / LQE2000-26 有機溶液を用いた透明材料のレーザーアブレーション
- 有機・高分子のレーザーアブレーションの新展開
- 有機分子をドープしたPMMAのレーザーアブレーションの効率
- 光反応性分子の極低温場レーザアブレーション
- 高分子材料表面の微細構造形成
- 高分子材料表面でのエキシマレーザーによる3次元微細構造形成
- マススペクトロメトリーによるポリエーテルスルフォンのレーザーアブレーションの研究
- エキシマレーザー照射によるポリウレタンの表面改質
- ArFエキシマレーザ照射によるフェニルヒドラジン雰囲気でのフッ素樹脂の表面改質
- エキシマレーザー反応によるフッ素樹脂表面の接着性の向上
- 紫外レ-ザ-を用いたポリマ-膜の表面改質
- アジド化合物のアブレーションによるポリマー膜の表面修飾
- エキシマレ-ザ-プロセシングによる高分子材料の表面改質
- 高分子膜のエキシマレ-ザ-光化学プロセッシング
- OPE2000-32 / LQE2000-26 有機溶液を用いた透明材料のレーザーアブレーション
- 広がるポリイン化合物