ククルビツリル誘導体の染料除去剤への応用
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 紫外線硬化を阻害しない新規な紫外線吸収剤の紫外線硬化塗料への応用
- スピロピランを含むポリイオンコンプレックスの合成とその薄膜のホトクロミズム
- 有機磁性体の発生材料としてのポリジアゾ化合物の合成 : ジアゾ化合物をビルディングブロックとする方法の展開
- 安定な三重項カルベン
- 長寿命三重項ジフェニルカルベンの構築
- これからの光化学(有機化学関連)
- 焼結・粒成長する多孔体組織における相連続性の計算機モデリング
- 粒成長する固相-液相組織における相連続性の計算機モデリング
- スチレンの熱ラジカル重合に対するスルホン酸の抑制効果
- ヒドロキシ基をブロックしたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の合成と紫外線硬化塗料への応用
- スメクタイト粘土触媒を用いたジフェニルオキシドの長鎖オレフィンによるアルキル化
- スピロピランのホトクロミズムに対する置換基と媒体の効果
- Orville L. Chapman のこと
- コウヨウマとナカリャコフとバボラークと専門の枠を超えよう
- Gordon Conference on "Organic Photochemistry"(2001)から Gordon Conference on "Photochemistry"(2003)へ
- 欧文誌と図書館と - 学会誌の危機
- ククルビツリル誘導体の染料除去剤への応用
- UCLA Chapman シンポジウム
- 有機リン化合物の光化学反応
- 低温固相でのカルベンの反応