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Univ. Tsukuba Tsukuba Jpn | 論文
- Gene Expression Analysis of Mouse Copper Trafficking Molecule, Cox17p.
- Expression and Copper-binding Activity of Mammalian Cox17p
- Identification of a Novel factor, Vanillyl Benzyl Ether, Which Inhibits Somatic Embryogenesis of Japanese Larch (Larix leptolepis Gordon)
- Crystallization and Preliminary X-ray Crystallographic Study of Streptomyces olivaceoviridis E-86 β-Xylanase
- 24aQB-4 20T超伝導マグネットを用いたテラヘルツジャイロトロンの開発V(24aQB プラズマ科学(ジャイロトロン・電磁波源),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 24aQB-3 二次高調波発振を用いた高周波パルスジャイロトロンの開発VIII(24aQB プラズマ科学(ジャイロトロン・電磁波源),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 24aQB-2 二次高調波発振を用いた高周波パルスジャイロトロンの開発VII(24aQB プラズマ科学(ジャイロトロン・電磁波源),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 1-05P-35 エピタキシャルPZT薄膜を用いた圧電型MEMSトランスデューサアレイの作製(ポスターセッション 1)
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシヤルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用
- γ-Al_2O_3/Si(111)基板上へのGaNヘテロエピタキシャル成長に関する研究(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
- γ-Al_2O_3/Si(111)基板上へのGaNヘテロエピタキシャル成長に関する研究(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
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