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TDK (株) 開発研究所 | 論文
- Cu/NiFe/Cu/CoPt人工格子における層間結合とMR特性
- 斜めスパッタ薄膜下地層を用いたグラニュラー薄膜の軟磁性化
- 斜めスパッタFeNi膜を下地層に用いたCo-Sm-O系グラニュラー薄膜のトンネル型磁気抵抗効果
- FeNi斜めスパッタ下地層上に形成したCo-Sm-Oグラニュラー薄膜の磁気抵抗効果
- FeNi斜めスパッタ下地層上に形成したCo-Sm-Oグラニュラー薄膜の磁気抵抗効果
- FeNi斜めスパッタ下地層上に形成したCo-Sm-Oグラニュラー薄膜の磁気抵抗効果
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- 斜めスパッタFeNi下地層を用いたグラニュラーTMR薄膜の特性
- 斜めスパッタ薄膜下地層を用いたCo-Sm-Oグラニュラー薄膜のTMR特性と軟磁性化(2)
- 薄膜直交フラックスゲート磁界センサの作製とその評価
- 薄膜型直交フラックゲート磁界センサの作製とその評価
- ポリイミドフィルムを基板に用いたGMR磁界センサ
- 薄膜磁気ヘッドにおける表面技術
- 磁気弾性効果により磁極磁区構造を安定化した薄膜ヘッド (磁気ヘッド・磁気記録再生特性)
- 新規な磁区構造制御方法を用いた薄膜ヘッド
- 薄膜磁気ヘッドにおける微細加工技術
- 薄膜磁気ヘッド用軟磁性めっき膜の動向
- CoFe電着薄膜の磁気特性