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Matsuisita Electric Industrial Co. Ltd. Kyoto Jpn | 論文
- フォトポリマーの研究 : 継続は力なり
- 大阪府立大学中百舌鳥キャンパス
- Dissolution Rate Analysis of ArF Resists Based on the Percolation Model
- エポキシ含有フルオレン : ポリシランブレンド系の光架橋
- スルホン酸エステル含有エポキシ架橋剤を用いた再可溶化型架橋系
- 新規スルホン酸エステル基を含有するエポキシポリマーの光架橋と水への再溶解
- Study of Transmittance of Polymers and Influence of Photoacid Generator on Resist Transmittance at Extreme Ultraviolet Wavelength
- Measurement of Resist Transmittance at Extreme Ultraviolet Wavelength Using the Extreme Ultraviolet Reflectometer(Instrumentation, Measurement, and Fabrication Technology)
- リワーク能を有する光架橋・硬化樹脂
- 熱分解型多官能架橋剤を用いたリワーク型光架橋系
- リワーク機能を有する光架橋・硬化樹脂
- Photocrosslinking of Oligomers Bearing Glycidyl Sulfonate Ester Units and Their Redissolution Property
- 水による溶解除去が可能なオキセタン部位含有光架橋性高分子 (特集:光とネットワークポリマー)
- 光重合
- Photocrosslinking and Thermal Degradation of Epoxy-containing Polymers Using Photobase Generators
- 超微細加工用フォトレジスト材料
- Effect of Anions on Photoreacitivity and Stability of Quaternary Ammonium Salts as Photobase Generators
- 光酸・塩基発生剤の開発とその新規フォトポリマー設計における活用
- 再溶解型光架橋・硬化樹脂
- Photocleavage Processes in an Iminosulfonate Derivative Usable as Photoacid in Resist Technology