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静岡大学工学研究科 | 論文
- RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜生成へのドーナツ円板の効果(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜生成へのドーナツ円板の効果(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成条件の調査 (シリコン材料・デバイス)
- RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成条件の調査 (電子デバイス)
- 高沸点電極における真空アーク陰極足の特性値の比較
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- 直流20-500V/5-30A回路における開離時アークの諸特性(放電・EMC/一般)
- C-5-6 閉成責務動作接点対でのアーク足の存在場所(C-5.機構デバイス,一般講演)
- CS-5-4 接点開離直後の間欠的アーク放電の発生メカニズム(CS-5.車載用機構デバイスの信頼性技術とその課題,シンポジウム)
- 1.6μm帯半導体レーザ励起によるTmシリカフアイバレーザの1.9μm帯レーザ発振(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎,及び一般)
- 白金担持TiO_2薄膜の生成と光触媒特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 白金担持TiO2薄膜の生成と光触媒特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 白金担持TiO_2薄膜の生成と光触媒特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 青色EL素子用SrS:Cu薄膜のステップアニール効果(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 青色EL素子用SrS:Cu薄膜のステップアニール効果(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 青色EL素子用SrS:Cu薄膜のステップアニール効果(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 面内膜厚傾斜を利用したLD励起面発光固体色素レーザの波長チューニング(有機材料,一般)
- 409 水中におけるフェムト秒パルスレーザー誘起の気泡生成過程の可視化(GS流体工学(流体計測など))
- Li二次電池用Mn酸化物薄膜の作製とその評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- Li二次電池用Mn酸化物薄膜の作製とその評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
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