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静大電子研 | 論文
- rfマグネトロンスパッタリングによる酸化亜鉛薄膜の成膜速度
- 反応性スパッタリングによるZnO:Al透明導電膜の低温成長
- 金属ターゲットを用いたRF反応性スパッタリングによるAlドープZnO薄膜の作製
- 反応性RFスパッタ法によるZnO膜の構造に及ぼす基板バイアス効果(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- 反応性RFスパッタリングによるZnO薄膜の結晶構造に及ぼす酸素分圧の効果
- RF反応性スパッタリングによるZnO薄膜の作成及びアニールの効果
- 複合ターゲット法によるTi-Fe系合金膜の製作とその電気抵抗特性
- チタン化合物固溶体膜の電気伝導機構その2 : Ti-N薄膜における負の抵抗温度係数
- Bloch-Gruneisen積分の多項式表現
- チタン化合物固溶体膜の電気伝導機構 : その1Ti-N
- チタニウム蒸着膜の電気特性におよぼす基板温度の影響
- 6a-KH-1 CdS-MnS混晶の光学,磁気特性III
- 共振転送方式スイッチング電源
- 全共振型スイッチング電源
- マイクロプロセッサーによる分子線エピタキシャル成長の制御
- 3-6 分子線エピタキシー法によるNEA透過型光電子放出素子
- 分子線源の設計条件について : マルチホールオリフィス分子線源の試作
- 拡張双対変換による回路合成
- Second Harmonic Generation in a Paramagnetic All-Organic Chiral Smectic Liquid Crystal
- A-20 容量差発振方式容量型センサインターフェース(A-1. 回路とシステムC,一般講演)