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豊橋技術科学大学電気・電子工学系 | 論文
- 内網膜機能に学んだ動き情報の生成とその電子回路化
- 低加速集束イオンビーム薄膜形成装置の開発とミクロ領域結晶成長への応用
- カーボンナノチューブおよびナノホーンの簡易作製法
- pHイメージセンサの開発(イメージセンサ技術の最新動向)
- Co-Sm-Oグラニュラー薄膜を用いた磁性フォトニック結晶
- CoSmOグラニュラー薄膜の磁気光学効果と1次元磁性フォトニック結晶への応用
- 1-05P-35 エピタキシャルPZT薄膜を用いた圧電型MEMSトランスデューサアレイの作製(ポスターセッション 1)
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシヤルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究
- 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用
- γ-Al_2O_3/Si(111)基板上へのGaNヘテロエピタキシャル成長に関する研究(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
- γ-Al_2O_3/Si(111)基板上へのGaNヘテロエピタキシャル成長に関する研究(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
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