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武蔵工大工 | 論文
- 2p-P-8 短パルスイオンビームの実験
- 極薄希土類酸化膜/Si(100)界面構造(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- 28p-P-9 サーマルクリープ流は多ロール構造を作るか
- 17pPSA-21 伝導性酸化物中に分散された鉄ナノ微粒子の磁性と伝導
- X線光電子分光法による極薄シリコン酸化膜の高精度膜厚算出
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性
- 6a-C-10 高度に結晶化したキッシュ黒鉛の電気抵抗
- 427 Sn-Pb合金粉末の圧延における固化成形の実験的解析(粉末加工)
- 215 放電プラズマ焼結法による Mg_2Si 反応生成挙動
- 213 メカニカルアロイング法による高炭素鋳鉄粉末の創製
- 210 Mg-Al-Zn 混合粉末のメカニカルアロイングによる合金化過程
- 1146 メカニカルアロイングした Mg-Al 合金の温間加工によるマグネシウム合金への接合
- 1145 AZ31 切削チップと亜鉛混合粉末のメカニカルアロイング
- 1137 固相反応法を用いたマグネシウム合金の表面改質
- 3p-PSA-58 半導性ガラス(35Na_2O-5Fe_2O_3-60P_2O_5)の低温メスバウアー分光
- 1a-PS-65 半導性ガラス(30Fe_2O_3-10Na_2O-60P_2O_5)の低温メスバウアー分光
- 1a-PS-62 半導性ガラス(30Fe_2O_3-10V_2O_5-60P_2O_5)の低温メスバウアー分光
- 2PB05 フッ素化液晶分子のコンホメーション解析
- 低温処理炭素のFT-IR
- SiO_2/Si(111)界面における価電子に対するエネルギー障壁