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株式会社半導体エネルギー研究所 | 論文
- カラムナープラズマCVDによるSiN_xの成膜 : 非発光型ディスプレイ関連 : 情報ディスプレイ
- CG Silicon TFTを用いたガラス基板上のCPU開発(システムLSIの応用とその要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- CG Silicon TFT を用いたガラス基板上のCPU開発(システムLSIの応用とその要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- CG Silicon TFT を用いたガラス基板上のCPU開発(システムLSIの応用とその要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- CG Silicon TFT を用いたガラス基板上のCPU開発(システムLSIの応用とその要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- CG Silicon TFTを用いたガラス基板上のCPU開発
- 熱拡散法によるCMOSデバイスの試作(3) : インバータ回路の製作・まとめ
- 熱拡散法によるCMOSデバイスの試作(2) : p型ウェルの形成について
- 熱拡散法によるCMOSデバイスの試作(1) : 試作プロセスの検討
- CGシリコン技術とそのディスプレイへの応用
- C-12-35 結晶性酸化物半導体(CAAC-IGZO)を用いたDRAMの応答速度(半導体メモリ,C-12. 集積回路,一般セッション)
- C-12-34 結晶性IGZO FETを用いた不揮発性FFとノーマリオフプロセッサ(LSIアーキテクチャ,C-12. 集積回路,一般セッション)
- C-016 結晶性酸化物半導体を用いて長時間のデータ保持が可能なレジスタを実装したプロセッサを用いた低電力システムの提案(LSI システムと設計技術,C分野:ハードウェア・アーキテクチャ)
- C-012 結晶性酸化物半導体トランジスタとSiトランジスタで構成されたメモリのノーマリオフコンピュータへの適用の可能性(LSI システムと設計技術,C分野:ハードウェア・アーキテクチャ)
- SID2012報告 : 液晶技術(SID'12報告会)
- 結晶性酸化物半導体とその情報ディスプレイへの応用 (情報ディスプレイ ディスプレイ材料･製造技術シンポジウム)
- 結晶性酸化物半導体とその情報ディスプレイへの応用(ディスプレイ材料・製造技術シンポジウム)
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