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松下電器産業(株)先端技術研究所 | 論文
- ディジタル・スマートピクセル
- DFBレーザへの光注入による波長変換を用いたチャーピング抑制と変調歪補償
- AlGaAs/GaAs多重量子細線の作製
- D-11-78 多層パーセプトロンによる液晶モニタとCRTモニタの色合わせ
- 28p-PS-83 無限枚構造を持つ(Sr, Nd)CuO_2薄膜の作製と超伝導特性
- Bi系超伝導多層膜の作製と物性
- 31p-PS-110 Bi-Sr-(Ln, Ce)-Cu-O薄膜の作製と特性 II
- 31p-PS-77 Bi系超伝導体/磁性体積層膜の磁気特性
- 6a-ZB-7 Bi系超伝導体/磁性体多層膜の作製
- 6a-ZB-6 Bi-Sr-(Ln, Ce)-Cu-O薄膜の作製と特性
- 6p-ZA-1 Nd-Ce-Cu-O膜の電子分光
- 実世界適応デバイス(「RWC-実世界知能」)
- 広帯域・高音質圧電形スピーカーの開発技術 (特集 最新セラミックス技術--高度化への材料・製法開発への挑戦)
- TMR素子の磁化反転磁界抑制の検討
- 超薄酸化膜を用いたPtMn系反射型スピンバルブ膜のMR特性
- トンネル接合における磁気抵抗, 磁気特性のAlOx厚依存
- TMR素子の抗磁力の抑制
- TMR素子特性に与える接合形状の効果
- FeSiAl/AlOx/FeCoトンネル接合の磁気抵抗
- FeSiAl酸化膜を用いた強磁性トンネル接合の検討