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東北大学通研 | 論文
- 25pRF-8 アップコンバージョンした光子対の非古典的な干渉(25pRF 量子エレクトロニクス(光量子情報処理),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- ISO/TC 43 ・ISO/TC 43/SC 1 ・ISO/TC 43/SC 2総会 : 音響に関する国際規格の審議状況 : 2009ソウル会議
- 両耳聴を目的としたステレオマイクロホンアレーの評価
- 23pRE-8 III-V族自己形成型半導体量子ドットの励起子ラビ振動における局所電場効果(23pRE 微粒子・ナノ結晶,領域5(光物性))
- 「迫真性」を規定する時空間情報
- ANSIの新しいラウドネス計算方法とISO226/2003の異同について
- ポリエステル不織布の音響材料としての応用
- 視覚と前庭覚のクロスモーダルな随伴性残効について(マルチモーダル,感性情報処理,視知覚とその応用,一般)
- 22aPS-58 III-V族半導体量子ドットの励起子フォトンエコー(22aPS 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- 23pPSB-25 InAs系自己形成量子ドットの励起子四光波混合のドット密度依存性(領域5ポスターセッション,領域5,光物性)
- 19pPSA-44 InAs系自己形成量子ドット中の励起子四光波混合IV(ポスターセッション,領域5,光物性)
- 25aPS-35 InAs系自己形成量子ドット中の励起子四光波混合III(25aPS 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- 27aWA-8 InAs系自己形成量子ドット中の励起子四光波混合II(27aWA 微粒子・ナノ結晶,領域5(光物性))
- 二方向マイクロパターン化磁性膜を用いたRF集積化インダクタ
- 二方向パターン化膜を用いたRF集積化インダクタ
- RF集積化インダクタ用CoNbZr膜の微細寸法設計
- RF集積化インダクタにおける二方向マイクロパターン化膜の効果
- CoNbZr薄膜を用いたGHz帯薄膜インダクタ
- 磁性膜の微細パターン化による磁気異方性の制御
- 微細パターン化磁性膜と平坦化処理プロセスを適用したRF集積化インダクタ
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