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東京応化工業 | 論文
- ウェットプロセスによる有機電界効果トランジスタのゲート構造依存性(有機材料・一般)
- ポジ型レジスト特性に及ぼす溶剤の影響
- プレベ-クしたポジ型ホトレジストの表面層の変化
- n型有機トランジスタにおける絶縁層/半導体層界面,及び半導体層/電極界面に関する検討(有機新材料,一般)
- 誘導結合型プラズマ質量分析法による超大規模集積回路用ホトレジスト溶液中のナトリウム及び鉄の定量
- 電子線レジスト-2-ポリn-ブチルメタクリラ-ト(Pn-BMA)の高解像度化の試み
- 電子線レジスト-1-ポリn-ブチルメタクリラ-ト(Pn-BMA)の特性と高感度現像液の検討
- 両性界面活性物質の分子集合体におけるイオン格子類似構造の形成と対イオン固定 (機能性ミセル)
- バンプめっき用ポジ型フォトレジストの高解像化および耐めっき性の改良
- フォトリソグラフィ(1)レジスト材料
- バンプめっき用フォトレジストの現状
- 高解像度レジスト
- 会長就任にあたって
- 高周波放電プラズマによるDeep UVレジストの微細パタ-ン乾式現像法
- 高分子情報材料はどこに行くのか (光と高分子)