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東レエンジニアリング(株)エレクトロニクス事業本部開発センター | 論文
- NLP2000-32 / NC2000-26 標本点とモデルの同時最適化
- 画像基礎アルゴリズムの新展開(実世界における画像技術の応用)
- 表面形状と膜厚分布計測の最近の話題
- 白色干渉による微細3D計測とその応用
- 帯域通過型標本化定理を用いた白色光干渉による表面凹凸形状の高速測定
- 単一断線故障を修復可能な最適汎化ニューラルネットワーク
- 記憶学習の射影学習族に対する適応可能性
- 射影学習族
- D-2-27 単一断線故障が生じたニューラルネットワークの最適汎化能力の復元
- D-2-25 射影学習族と最小分散型射影学習
- 射影学習族
- AP-6-4 標本化定理の産業応用 : 光干渉計測における新しい信号処理アルゴリズム(AP-6.信号・画像の離散化、特に量子化法についての討論-OK量子化理論とその展望-,パネル討論,ソサイエティ企画)
- 半導体、液晶プロセスにおける検査技術の動向
- 白色干渉法による高速表面形状測定装置 (特集:外観検査技術)
- 東レエンジニアリング(株)の膜形状測定装置SP-500F--光干渉法による表面形状と膜厚分布の同時計測 (特集:最近の非接触三次元計測)
- 光干渉法による表面形状測定装置「SP-500」と透明膜計測への応用 (特集:エレクトロニクスとコンバーティング)
- 透明膜で覆われた物体のワンショット干渉計測法
- 基調講演 超精密3次元形状計測の最新動向--白色干渉における革新的アルゴリズムの開発とその応用 (特集2 ViEW2006 ビジョン技術の実利用ワークショップ)
- バイアスの推定とモデル選択
- D-2-24 最良線形不偏推定の拡張としての射影学習