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日本電子 | 論文
- 碍子からの放出ガスに起因する沿面放電
- 高電圧電極に対するアルゴングロ-コンディショニング効果(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- 12p-R-14 ペニング電離の電子分光法による研究 I. He^+Ar, Xe, N_2
- J0601-2-6 集積回路中の配線用銅薄膜界面に対する付着強度の評価([J0601-2]電子情報機器,電子デバイスの強度・信頼性評価と熱制御(2))
- 4a-TB-5 電子顕微鏡による照射欠陥形成過程の観察
- NMRイメ-ジとESRイメ-ジ (キャラクタリゼ-ションの新しい展開)
- 3C3 パラ2臭化ベンゼンの核四極吸収のゼーマン効果
- 27pTN-12 LiV2O4結晶の環状明視野像におけるリチウムカラム強度解析(27pTN X線・粒子線(陽電子・電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 24p-D-2 ブラックコートディスクガラスレーザー
- 6p-H-2 電子顕微鏡による原子内電子雲の直接観察
- 5a-KE-3 超高分解能電顕試料支持膜と原子の像のコントラスト
- 11a-T-8 暗視野像法による原子の像のコントラスト
- 7a-D-1 透過型電顕によるウランおよびトリウム原子の像
- 6p-D-9 Epitaxial 成長膜におけるPsendo morphism の検討 IV
- 29aWD-4 X 線分光・散乱による Gd/Cu 多層膜の層内磁化分布
- 29aWD-4 X 線分光・散乱による Gd/Cu 多層膜の層内磁化分布
- 27pTN-6 広帯域SXES装置の試作開発II(27pTN X線・粒子線(陽電子・電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 電子ビ-ム描画装置の現状--JBX-6A2を中心に (超微細加工技術とエレクトロニクス--機能の高集積化・高性能化の事例と話題の技術) -- (話題の超微細加工技術と可能性)
- EPMA装置開発の動向と展望 (特集 EPMAの最近の展開)
- 1a-M-5 わん曲形PSPCの微小領域X線回折への応用
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