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日本真空技術株式会社 | 論文
- TiN成膜したステンレス箔の水素透過特性評価
- 2A06 JT-60第一壁保護膜の開発
- 中真空領域の標準真空計及び実用真空計にレーザー光のレーリー散乱を用いる可能性に関する研究
- 100kV Mott散乱型電子スピン分析器の開発
- RHEED-TRAXS法を用いたGaAs基板清浄化過程の観察
- 真空におけるダストフリ-技術
- 全アルミニウム合金製小型スパッタ装置の超高真空特性(速報)
- 全アルミニウム合金製小型スパッタ装置(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- 5p-PS-61 超微粒子から作製したY-Ba-Cu-O系厚膜の超伝導特性
- 物質科学を支える超高真空技術
- 6p-L-4 真空機器の進歩と真空設計方針の変遷
- 超高真空領域におけるペニング放電の開始困難の解消 : 真空
- 15A-1 ゲッターイオンポンプ
- 15A-1 ゲッターイオンポンプ
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- 10^Pa台の超高真空対応スパッタリング装置によるアルミニウム膜の堆積
- 超高真空冷陰極真空計の比較 : 真空
- ARE(活性化反応性蒸着)法によるcBN膜(超硬質薄膜形成技術の新展開)
- EF-09 RECORDING AND REPRODUCTING PROPERTIES OF MAGNETIC TAPE BY HIGH INCIDENCE ANGLE NUCLEATION METHOD(1982年インタ-マグ報告)
- AF-04 "GT TARGET", A NEW HIGH RATE SPUTTERING TARGET OF MAGNETIC MATERIALS(1982年インタ-マグ報告)