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日本真空技術(株)技術開発部 | 論文
- 中真空領域の標準真空計及び実用真空計にレーザー光のレーリー散乱を用いる可能性に関する研究
- RHEED-TRAXS法を用いたGaAs基板清浄化過程の観察
- 10^Pa台の超高真空対応スパッタリング装置によるアルミニウム膜の堆積
- 磁気中性線放電プラズマ(II)-酸化膜エッチングへの応用-
- 超高真空的配慮がなされたMOCVD装置の開発(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- ダイアフラム型真空計について-下-
- ダイアフラム型真空計について
- PF2.5GeV電子・陽電子蓄積リング高輝度化に使用するフランジの検討
- アブストラクト
- アブストラクト
- ダイヤフラム型真空計について (下)
- ダイアフラム型真空計について〓
- アブストラクト
- アブストラクト
- 光イオン化質量分析-ラジカルの検出-
- 11. 真空ポンプ
- 真空をつくる : 真空をつくって,測る
- クライオポンプの発展と応用
- 新しい真空装置用材料 (真空・薄膜・表面) -- (真空技術の進歩と発展)
- アブストラクト