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佐賀大学理工学部電気工学教室 | 論文
- SAGA Light Source の現状及びシンクロトロン光を用いたプロセス技術
- シンクロトロン光励起プロセスの半導体応用と展望
- 佐賀県立九州シンクロトロン光研究センター事業の現状と利用計画
- 光照射MOVPE成長によるZnTe膜のフォトルミネッセンス : エピタキシャル成長IV
- 22aB6 有機金属原料を用いたシンクロトロン放射光によるZnTeのホモエピタキシャル成長(気相成長I)
- マイクロ波プラズマ化学気相法によるダイヤモンド薄膜の成長
- A1 ドープ ZnTe の MOVPE 成長 : エピタキシー I
- p型ZnTeへのオーミックコンタクト : 薄膜
- ダイヤモンド薄膜の製造技術の開発及び電子部品生産技術への応用に関する研究(III)
- 光照射MOVPE法によるZnTeの常圧成長 : 気相成長I
- Ar^+レーザ照射MOVPE法によるZnTeの成長特性 : エピタキシーI
- MOVPE法によるアンドープ並びにAlドープZnTe膜のPL特性 : 薄膜成長I
- 交互供給法によるシンクロトロン放射光励起エピタキシー : 無機結晶II
- 視標追跡による手の随意運動機能の記録処理装置改良と解析法
- 塩化水素を用いた開管化学気相法によるZnTeの成長特性
- バイパス流を用いたGaAs基板上へのZnSeの気相エピタキシャル成長
- 閉管成長系に於ける混晶半導体ZnTe_1-_xSe_xの熱力学計算
- 開管法によるZnTe気相成長特性
- 閉管法における気相成長とガス輸送に関する理論的考察
- 閉管法におけるZnTe気相成長の解析的考察