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住友電気工業株式会社播磨研究所 | 論文
- ArFエキシマレーザーによるSi_3N_4膜の表面改質
- 結晶Si_3N_4のArFエキシマレーザー照射効果
- 7)イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用(情報入力研究会情報ディスプレイ研究会)
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用 : 画像変換技術関連 : 情報入力 : 情報ディスプレイ
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用
- 29a-L-10 シラン系ガスのアンジュレーター光による分解(原子・分子)
- エキシマレーザーによる電界分極石英ガラス中のSHG相の消去プロセス
- 電界分極Ge-doped石英ガラスの2次の非線形光学性
- 小型SR装置を用いた軟X線CT法の開発
- SRリソグラフィを用いて製作した複合圧電材料の内部共振(半導体エレクトロニクス)
- 放射光を用いたマイクロコネクタの開発
- SR微細加工(LIGA)を用いた複合圧電材料の開発
- 超軟X線発光分析のレーザープロセシングへの応用
- 真空紫外レーザー照射改質表面の軟X線発光分析
- ArFエキシマレーザーアブレーション閾値近傍での多重照射によるSi_3N_4膜表面層の突起物出現とシリコン析出
- Si_3N_4膜とセラミクスに対するエキシマレーザーとYAGレーザーの照射効果