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九州先端科学技術研究所 | 論文
- 二光子吸収特性を利用した有機ホウ素化合物の導波路構造型多層光メモリへの応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
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- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
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- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
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- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 大規模再構成可能データパスにおける実行前処理削減方式の検討
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- 大規模再構成可能データパスプロセッサの設計手法(アクセラレーション/メモリシステム,「ハイパフォーマンスコンピューティングとアーキテクチャの評価」に関する北海道ワークショップ(HOKKE-2009))
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- PSI-NSIM : 大規模並列システムの性能解析に向けた並列相互結合網シミュレータ(コンピュータシステム技術,先端的コンピュータシステム技術及び一般)
- 次世代スーパーコンピュータの設計開発に向けたシステム性能評価環境PSI-SIM(HPC-16 : 性能評価)
- 大規模並列システムの性能評価を目的としたプログラムコード抽象化技法(HPC-3 : スケジューリング)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
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- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
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