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ウシオ電機 | 論文
- マイクロ波点灯無電極HIDランプの設計の研究(光源・回路-6)
- 46.液晶プロジェクター用極短アーク直流点灯メタルハライドランプの特性((2)光源・回路・放電現象[II] : HIDランプ及びその他)
- 23. 液晶プロジェクター用アーク長3mm直流点灯短アークMHランプの寿命特性
- リソグラフィ用EUV光源
- CF4ホローカソード放電中のF，CF2の放射強度に及ぼすO2の影響
- 172nm真空紫外光で励起したアンモニアガスの脱硝反応特性
- 4.3 ランプの新用途 : エキシマランプと用途(4. これからの光源,プラズマの光源応用〜身近な明かりから次世代光源まで〜)
- Xe_2^*エキシマランプを用いたUV/O_3洗浄の検討
- ビデオカメラ液晶ビューファインダ用バックライトの特性(情報ディスプレイ研究会)(波形等化技術)
- ビデオカメラ液晶ビューファインダ用バックライトの特性
- プロジェクター用メタルハライドランプ (特集 高輝度プロジェクターとそのコンポーネント)
- エキシマランプとその応用
- 4.エキシマランプ(光源としてのプラズマ : 基礎と最近の研究から)
- 40. 光量が安定化されたエキシマ紫外線照射装置の開発((2)光源・回路・放電現象〔II〕(HIDランプ関係)
- 低圧容器内での微粒子挙動
- S5. 投射型液晶用光源・光学系 : 技術動向
- プロジェクター用光源
- S-6 投写液晶形ディスプレイ用バックライト (「液晶ディスプレイ用バックライトの技術課題」)
- エキシマVUV/O3洗浄装置 (液晶ディスプレイ技術2001年) -- (液晶ディスプレイ製造技術編)
- DBDおよびVUVによる励起アンモニアの組成