スポンサーリンク
アルバック・ファイ株式会社 | 論文
- 表面分析技術 6. 二次イオン質量分析法(SIMS)
- オ-ジェ電子分光法を用いた半導体試料の分析
- 酸素プラズマ処理によってPPフィルム上に生成するWBLについて
- 鋼中のタングステンのグロー放電発光分光分析(無機材料分析のためのスペクトロメトリー)
- 深さ方向分析法に関する国際標準化と国内活動
- 電子線照射によるSiO_2/Si試料損傷の低エネルギーオージェピークを用いた定量的評価
- 金属の表面分析の現状と課題 (2)(共同研究会鉄鋼分析部会表面分析小委員会)
- 金属の表面分析の現状と課題 (1)(共同研究会鉄鋼分析部会表面分析小委員会)
- マルチプローブ走査型X線光電子分光分析装置「PHI5000 VersaProbe」 (全冊特集 次世代プロセスに対応する半導体製造装置と材料) -- (半導体試験・検査・分析装置)
- 新飛行時間型2次イオン質量分析装置「TRIFT V nano TOF」 (全冊特集 次世代プロセスに対応する半導体製造装置と材料) -- (半導体試験・検査・分析装置)
- X線光電子分光法による材料分析・解析における最新技術 (特集 材料分析・観測技術の勘どころ)
- TOF-SIMS, Q-SIMS, XPSによるイオン照射に伴う有機材料表面の状態変化の解析
- イオンスパッタリング装置と一体化した表面汚染の影響を受けない高精度分析法の開発
- 炭素炉加熱-前方共鳴散乱分光法による金属中の銀,銅,鉛,カドミウムの定量(無機材料分析のためのスペクトロメトリー)
- V. 鉄鋼における表面分析の現状と問題点(第 111 回講演大会討論会報告)
- 前方共鳴散乱分光法の励起源としてのグリムグローランプ
- コバルト酸化物中の金属コバルト,コバルト(II)及びコバルト(III)の分別定量
- オージェ電子分光法を利用した微小異物分析
- 放射光光源を利用したX線光電子顕微鏡(XPEEM)の進展
- 2L06 ばいじん試料のSIMS分析