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アルバック・ファイ(株) | 論文
- イオンスパッタリング装置と一体化した表面汚染の影響を受けない高精度分析法の開発
- 二次イオン質量分析法(SIMS)による表面分析技術--TOF-SIMSを中心として (〈特集〉最近の表面・界面の評価技術)
- SIMSによる高感度分析例 (特集 材料の高純化のための微量元素の分析と解析)
- オージェ電子分光法を利用した微小異物分析
- 放射光光源を利用したX線光電子顕微鏡(XPEEM)の進展
- 2L06 ばいじん試料のSIMS分析
- 第23回表面化学基礎講座 : 表面・界面分析の基礎と応用
- (14) 最近の表面分析法と応用例(主題 : 素材・材料プロセスに係わる物性と評価)(素材工学研究所第 6 回研究懇談会)(素材工学研究会記事)
- 表面分析装置と超高真空技術
- 表面分析法とその装置 (フォーラム「表面改質技術の現状とその展開」)
- シリコンのトライボケミカルナノ加工 : 放電とトライボケミカル反応の比較
- メカノケミカル反応によるシリコンのナノメータ隆起・除去加工とそのエッチングマスクへの応用
- TOF-SIMS法による固体表面分析(1)--基本技術と特徴的な測定例
- F-0529 トライボケミカル反応によるナノメータスケールのマスク形成(J17-3 マイクロトライボロジー&プロセッシング(3))(J17 マイクロトライボロジー&プロセッシング)
- 3511 層状材料のナノ加工特性
- 3510 超格子膜の微細加工とメモリーへの応用
- シリコンのナノメータ隆起と除去加工
- 原子間力顕微鏡(AFM)によるメカノケミカル隆起加工
- ナノ周期積層膜の磨耗特性を活用したナノ加工技術の開発
- 原子間力顕微鏡(AFM)によるシリコンのマイクロ隆起加工