スポンサーリンク
(株)日立製作所機械研究所 | 論文
- 半導体デバイスにおけるシリコン基板転位発生予測手法の提案 : 転位発生限界値のデバイス構造依存性
- シリコン基板内応力特異場における転位発生強度の酸素濃度依存性
- 球圧子を用いたシリコン基板の転位発生強度評価法
- 半導体デバイスにおけるシリコン基板転位発生予測手法の提案
- 薄膜の内部応力を考慮したトランジスタ構造の応力解析方法の検討
- シリコン熱酸化過程における応力解析
- 表面に浅溝構造を有するシリコン基板の選択酸化後残留応力評価
- アモルファスシリコン薄膜における結晶化誘起応力の検討
- 電気抵抗ひずみ測定器入力コネクタ
- 微細格子パターンを用いたパラレルメカニズムのキャリブレーション(機械力学,計測,自動制御)
- ロボット動作コンテンツ制作用モーションエディタシステムの開発(セッション1: オーサリング)
- 圧縮機内の潤滑状態計測技術
- リン酸マンガン処理した鋳鉄の摩耗プロセスとその評価法
- イオン注入により改質したフッ素樹脂のはっ水性に及ぼす粗さと表面組成の影響
- トライボロジー界面相互作用のマイクロ・メゾスコピック解析
- クリーン環境下における薄膜媒体の大気腐食とその評価法
- 薄膜磁気ディスク表面とヘッド間に発生する結露現象のモデル提案とその実験的検証
- 磁気ディスクスピンドル系の玉通過振動解析
- タイプCIインチVTRの自動装填化の検討
- 半導体浅溝型素子分離(SGI)構造の酸化反応誘起応力の検討