スポンサーリンク
(株)日立製作所ストレージテクノロジー研究センタ | 論文
- イオンミリング法を用いた垂直記録用単磁極ヘッドの作製
- Ni_Fe_超薄膜の飽和磁化と Dead Layer
- Fe_3O_4膜の極薄膜化における磁気・電気特性の変化
- ハーフメタル薄膜の磁気、伝導特性
- Au膜上のハーフメタルFe_3O_4薄膜の開発とその応用
- ハーフメタルFe_3O_4膜の開発と応用 : ハーフメタル適用GMR
- 高抵抗シールド膜を用いた再生ヘッドのR/W特性
- CoFe/Al_2O_3グラニュラ膜の磁気電気特性に及ぼす膜形成条件の影響
- Fe_N_2単結晶膜の巨大飽和磁化と窒素の電子準位の関係
- 31p-S-3 窒化鉄膜(11at%N)の不規則-規則状態間の磁気特性
- 25a-N-4 巨大飽和磁化Fe_N_2膜のメスバウアー分光
- 25a-N-3 FMRで求めたFe_N_2のg因子と飽和磁化
- 27a-APS-50 Fe_N_2膜の結晶構造
- 27a-APS-49 Fe_N_2膜の磁化の温度変化
- 高読出しディスターブ耐性と長リテンションを実現する高耐熱スピン注入RAM
- 双方向ローカルライトドライバ, 1/0平均化リファレンスセル, 2T1Rセルレイアウトを用いた32Mb SPRAM
- 8aWA-6 Fe_3O_4を用いたGMR膜の磁気抵抗効果と電気伝導(トンネル磁気抵抗・メゾスコピック伝導,領域3)