樋口 和人 | (株)東芝 生産技術センター
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概要
(株)東芝 生産技術センター | 論文
- 300mm対応スロットアンテナプラズマ源による低損傷・高速ダウンフロープロセスの研究
- 反応性イオンエッチング(RIE), スパッタ及び化学気相成長法(CVD)におけるシミュレーション
- 121 蒸着装置の面内均一性を改善するマスク形状・配置の最適化(計算力学と最適化(4),OS19 計算力学と最適化)
- モンテカルロ法によるイオン化スパッタシミュレーション : 第2報,ウエハ表面におけるCu原子・イオンの挙動の考慮(流体工学,流体機械)
- モンテカルロ法によるイオン化スパッタシミュレーション : 第1報,Cu埋め込み形状の再現(流体工学,流体機械)