鈴木 孝将 | 福岡大工
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概要
関連著者
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鈴木 孝将
福岡大工
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柳生 数馬
福岡大工
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柳生 数馬
東工大院理工
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友景 肇
福岡大工
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田中 悟
九大工
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田尻 恭之
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東大物性研
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東大物性研
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高橋 敏男
東大物性研
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吉澤 俊介
東大物性研
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能方 駿介
福岡大工
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鈴木 孝将
福岡大工:Max-Planck-Inst. for Solid State Research
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Kratzer P.
Univ. of Duisburg-Essen
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Costantini G.
Max-Planck-Inst. for Solid State Research:Univ. of Warwick
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Kern K.
Max-Planck-Inst. for Solid State Research:EPFL
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Geisler B.
Univ. of Duisburg-Essen
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Lutz T.
Max-Planck-Inst. for Solid State Research
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宮町 俊生
東大物性研
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栃原 浩
福岡大工
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梶原 隆司
九大工
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Kruger Peter
ミュンスター大物理
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Pollmann Jahannes
ミュンスター大物理
著作論文
- 26pPSB-30 SiC(0001)表面における銅蒸着グラフェン膜の研究(26pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26pPSB-29 Si(001)表面上のペンタセン薄膜の初期成長(26pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 19aEC-3 SiC(0001)表面上に成長したグラフェン膜へのCu蒸着(19aEC 領域7,領域9合同 グラフェン(分光・構造),領域7(分子性固体・有機導体))
- 26pPSA-28 SiC(0001)表面上に成長したグラフェン膜へのCu蒸着2(26pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26pPSA-3 Si(111)-7×7表面上のMnSi薄膜の成長と構造(26pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27pAP-6 SiC上の結晶性シリカシートのSTM観察とそのバンドギャップ(27pAP 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))