Schiavone Patrick | Laboratoire des Technologies de la Microélectronique CNRS, c/o CEA-Grenoble, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France
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概要
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関連著者
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Schiavone Patrick
Laboratoire des Technologies de la Microélectronique CNRS, c/o CEA-Grenoble, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France
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Schiavone Patrick
Laboratoire des Technologies de la Microélectronique, CNRS, c/o CEA Grenoble, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 09, France
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Edee Kofi
Laboratoire des Technologies de la Microélectronique, CNRS, c/o CEA Grenoble, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 09, France
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Granet Gerard
Laboratoire des Sciences et Matériaux pour l'Electronique et d'Automatisme, CNRS/UMR 6602, Université Blaise Pascal, Les Cézeaux, 63177 Aubière Cedex, France
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Edee Kofi
Laboratoire des Technologies de la Microélectronique, CNRS, c/o CEA Grenoble, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 09, France
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Payerne Renaud
Laboratoire des Technologies de la Microélectronique CNRS, c/o CEA-Grenoble, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France
著作論文
- Analysis of Defect in Extreme UV Lithography Mask Using a Modal Method Based on Nodal B-Spline Expansion
- Rigorous Simulation of Line-Defects in Extreme UV Masks