内海 和明 | 日本電気(株)基礎研究所
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概要
関連著者
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内海 和明
日本電気(株)材料開発センター
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内海 和明
日本電気(株)基礎研究所
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越智 篤
日本電気(株)技術開発センター
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越智 篤
日本電気(株)基礎研究所
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米澤 正智
日本電気(株)環境・材料研究所
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米澤 正智
日本電気(株)基礎研究所
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田淵 順次
Nec材料開発センター
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田淵 順次
日本電気(株)基礎研究所
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米沢 正智
日本電気(株)中央研究所
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米沢 正智
日本電気(株)基礎研究所
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久保 佳実
日本電気(株)基礎研
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五十嵐 等
日本電気(株)基礎研
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中林 幸信
日本電気(株)光・超高周波デバイス研究所
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島川 祐一
日本電気(株)基礎研究所
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島川 祐一
Nec基礎研究所
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米沢 正智
日本電気基盤技研
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高橋 誠治
九州工業大学工学部
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久保 佳実
日本電気(株)システムデバイス・基礎研究本部 基礎研究所
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高橋 誠治
日本電気(株)基礎研究所
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白方 雅人
日本電気(株)回路部品事業部
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布村 恵史
日本電気(株)カラーPDP開発センター
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佐野 与志雄
日本電気(株)光エレクトロニクス研究所
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内海 和明
日本電気 基礎研
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内海 和明
Nec ラミリオンエナジー
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布村 恵史
日本電気(株) カラーpdp事業推進本部
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高見沢 秀男
日本電気(株)基礎研究所
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田渕 順次
日本電気(株)基礎研究所
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大出 延男
日本電気(株)材料開発試作センター
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五十嵐 等
日本電気(株)(前)人事教育部
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島川 祐一
日本電気(株)
著作論文
- Pb(Mg_W_)O_3Pb-(Ni_Nb_)O_3-PbTiO_3系低温焼結強誘電体材料の調製 : 合成・キャラクタリーゼーション
- YBa_2Cu_3O_の微小組成変化が電気的,化学的性質に及ぼす影響
- スクリーン印刷法による高温超伝導体厚膜の作製
- 低温焼結積層セラミックコンデンサ
- この人にきく
- 高誘電率セラミック絶縁体層を用いた薄膜EL素子
- セラミック系高温超伝導体の合成と評価
- 空孔形成技術