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西山 誠司 | 松下電器産業(株)ディスプレイデバイス開発センター
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松下電器産業(株)ディスプレイデバイス開発センター | 論文
新たな製造方法により得られた高特性低温ポリSi-TFT
低温ポリシリコン薄膜の作製と評価 : エキシマーレーザーアニールによる結晶化プロセスと結晶性の関係
誘導結合SiH_4放電によるシリコン薄膜の低温結晶化
誘導結合型シランプラズマを用いた水素化アモルファスシリコン膜の生成
紫外透過分光法によるSiH_4プラズマのモニタリング
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