時任 静士 | NHK技研
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概要
関連著者
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時任 静士
NHK技研
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熊木 大介
山形大・理工学研究科
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熊木 大介
山形大学大学院:山形大学有機エレクトロニクス研究センター
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時任 静士
山形大学大学院:山形大学有機エレクトロニクス研究センター
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長谷川 達生
産総研
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長谷川 達生
産総研光技術
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松井 弘之
産総研:東大新領域
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松井 弘之
東大院新領域
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松井 弘之
産総研光技術
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高橋 永次
産総研光技術:住化分析センター
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長谷川 達生
産業技術総合研究所 光技術研究部門
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熊木 大介
山形大学 大学院理工学研究科
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時任 静士
山形大学 大学院理工学研究科
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瀧宮 和男
理研
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松井 弘之
産総研
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瀧宮 和男
広大工
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Mishchenko Andrei
理研
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熊木 大介
NHK技研
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熊木 大介
東京工業大学 物質電子科学専攻
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時任 静士
東京工業大学 物質電子科学専攻
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時任 静士
山形大・理工学研究科
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熊木 大介
山形大工
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時任 静士
山形大工
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熊木 大介
山形大有機エレ
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高橋 永次
住化分析センター
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時任 静士
山形大有機エレ
著作論文
- 30aYG-11 高移動度ポリマートランジスタにおけるESRスペクトルの運動による尖鋭化(30aYG 界面・分子デバイス,領域7(分子性固体・有機導体))
- 有機TFTの高性能化と応用展開
- 有機薄膜トランジスタの高性能化とフレキシブルディスプレイへの応用 (特集 フレキシブルディスプレイ--実用化に向けた材料技術の開発動向)
- シランカップリング剤を用いたゲート絶縁膜表面処理による有機薄膜トランジスタの高性能化 (プリント基板、封止材料分野でのシランカップリング剤の選び方、使い方、分析ノウハウ)
- 有機薄膜トランジスタにおける表面・界面の制御 (特集 有機半導体デバイスと表面・界面--デバイス技術と物性評価法の進展)
- 液晶性高分子半導体を用いた高性能高分子薄膜トランジスタ
- 液晶性高分子半導体を用いた高分子薄膜トランジスタの高性能化
- 液晶性高分子半導体の高次構造制御と有機TFTへの応用
- 液晶性高分子半導体を用いた高性能高分子薄膜トランジスタ
- 28pTN-5 有機薄膜トランジスタにおける微結晶内-微結晶間キャリヤダイナミクスの分離(28pTN 分子デバイス,領域7(分子性固体・有機導体))
- 21pTD-4 有機薄膜トランジスタにおける微結晶内-微結晶間キャリヤダイナミクスの分離II(21pTD 分子デバイス,領域7(分子性固体・有機導体))
- 電子・半導体 共役系高分子の高次構造制御と薄膜トランジスタへの応用 (特集 プリンテッド・エレクトロニクス材料 : エレクトロニクス製造における革命)
- 酸化モリブデンを用いた塗布型電荷注入層による高分子TFTの高性能化