大花 継頼 | 産業技術総合研

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概要

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• 同名の論文著者
• 産業技術総合研の論文著者

関連著者

• 中村 挙子

  産業技術総合研究所

• 大花 継頼

  産業技術総合研

• 長谷部 光泉

  慶應義塾大学 大学院理工学研究科

• 鈴木 哲也

  慶應義塾大学 大学院理工学研究科

• 長谷部 光泉

  東海大学医学部

• 薮野 元

  慶應義塾大学大学院理工学研究科

• 笠井 ルミ子

  東邦大学医療センター佐倉病院

• 坪田 敏樹

  九州工業大学

• 萩原 佑太

  九州工業大学

• 中村 挙子

  産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門

• 大花 継頼

  産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門

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著作論文

• 光化学反応による硫黄官能基修飾カーボン系材料の作製および金表面上における挙動(バイオ,界面,材料センサー,電子移動,一般)
• 化学修飾ナノダイヤモンド粒子MRI造影剤の作製(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術及び一般)
• 化学修飾ナノダイヤモンド粒子MRI造影剤の作製(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術及び一般)

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